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新品來襲！Phenom XL G3 掃描電鏡配備 3000h 燈絲，平均 5 年更換一次，真正省心省錢。AI 智能、自動(dòng)拼圖、集成能譜，輕松實(shí)現(xiàn)工業(yè) 4.0 級(jí)檢測(cè)。無(wú)論是科研實(shí)驗(yàn)室還是生產(chǎn)車間，都能快速穩(wěn)定運(yùn)行。

「特點(diǎn)速覽」

• 穩(wěn)定可靠: 80年頂尖技術(shù)傳承。

• 采用 CeB6晶體燈絲: 3000 h 超長(zhǎng)使用壽命，平均 5 年換燈絲。

• 面向工業(yè) 4.0 的自動(dòng)化與 AI 智能掃描電鏡：開放編程接口，打造定制化的“黑燈實(shí)驗(yàn)室"檢測(cè)流程，支持 Maps 地圖式多模態(tài)、多維度自動(dòng)拼圖及關(guān)聯(lián)。

• 不挑安裝環(huán)境：內(nèi)置減震系統(tǒng)，可直接放置于生產(chǎn)車間、高樓層 QC 實(shí)驗(yàn)室等。

• 原廠集成能譜 EDS：從電子光學(xué)設(shè)置、圖像采集到能譜分析和面分布，都在同一個(gè)統(tǒng)一、直觀的界面中完成。

• 低電壓成像功能：對(duì)于不導(dǎo)電、導(dǎo)電性差、以及電子束敏感樣品，不噴金，仍具有卓（zhuo）越的成像能力。

01.80 年頂尖技術(shù)傳承

（1）飛利浦時(shí)期（1939-1996）

• 起源：1939 年，Le Poole 提出電子顯微鏡構(gòu)想，1944 年成功開發(fā) 150kV 電子顯微鏡，奠定技術(shù)基礎(chǔ)。

• 發(fā)展：1949 年推出第一臺(tái)商業(yè)化電鏡 EM100。后續(xù)不斷推出創(chuàng)新產(chǎn)品，如 1972 年進(jìn)入 SEM 市場(chǎng)，推出 PSEM500。

（2）FEI 時(shí)期 (1996-2016)

• 合并：1997 年，飛利浦電子光學(xué)業(yè)務(wù)與 FEI 合并，獲得 ESEM 技術(shù)，技術(shù)實(shí)力增強(qiáng)。

• 創(chuàng)新：2006 年推出桌面型掃描電鏡--飛納（Phenom World），使用 1500h 長(zhǎng)壽命 CeB6 燈絲。

 （3）賽默飛時(shí)期（2016-至今）

• 收購(gòu)：2016 年，F(xiàn)EI 被賽默飛收購(gòu)。2018 年 Phenom World 被賽默飛收購(gòu)，正式更名為 Thermo Scientific 品牌。

• 傳承與發(fā)展：技術(shù)上繼承 FEI 創(chuàng)新成果，繼續(xù)提升性能，目前除了 CeB 燈絲系列，還有臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射電鏡系列，公安法醫(yī)等特定領(lǐng)域?qū)Ｓ秒婄R，產(chǎn)品線豐富，型號(hào)達(dá)數(shù)十種。

飛納電鏡從飛利浦到賽默飛，歷經(jīng)近 80 年技術(shù)沉淀，從最初的構(gòu)想與商業(yè)化，到不斷的技術(shù)創(chuàng)新與突破，始終在電子顯微鏡領(lǐng)域保持領(lǐng)（ling）先地位。

02.3000h CeB6 晶體燈絲--平均 5 年更換燈絲

擁有超長(zhǎng)壽命核心部件，采用 3000 小時(shí)高亮度六硼化鈰（CeB?）燈絲，平均 5 年更換燈絲，確保設(shè)備 7×24 小時(shí)連續(xù)運(yùn)行，減少維護(hù)頻率和持有成本，讓產(chǎn)線或?qū)嶒?yàn)室長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行無(wú)憂。

03. AI 智能掃描電鏡--面向工業(yè) 4.0 的自動(dòng)化

從裝樣到出圖，僅需 1 分鐘，高測(cè)試效率，操作員無(wú)需漫長(zhǎng)等待，檢測(cè)通量比傳統(tǒng)電鏡提升 5-10 倍，極大加速了 QC 判斷和研發(fā)迭代。

        （1） “深度集成，隨需而變"

開放的自動(dòng)化接口，提供 Python 腳本控制 (PPI)，可以無(wú)縫集成到客戶現(xiàn)有的自動(dòng)化產(chǎn)線和 LIMS 系統(tǒng)中。精準(zhǔn)的自動(dòng)化馬達(dá)臺(tái)，結(jié)合軟件腳本，一次可容納 36 個(gè)樣品，打造“無(wú)人值守的質(zhì)檢工廠"，自定義設(shè)定程序，在夜間或休息時(shí)間對(duì)大批量樣品進(jìn)行自動(dòng)拍照和分析，最（zui）大化設(shè)備利用率。

（2）“一張圖看全貌，多點(diǎn)分析無(wú)遺漏"

在晶圓、濾膜、金屬斷口等大樣品上，自動(dòng)獲取全景高清圖，并對(duì)預(yù)設(shè)的關(guān)鍵點(diǎn)位進(jìn)行高倍率分析，確保檢測(cè)無(wú)（wu）死角。

（3）從“看"到“算"

專業(yè)的自動(dòng)化分析軟件，ParticleMetric (顆粒統(tǒng)計(jì))、FiberMetric (纖維統(tǒng)計(jì)) 等專用軟件。自動(dòng)化完成需要人工數(shù)小時(shí)才能完成的顆粒度、形貌、尺寸分布等統(tǒng)計(jì)工作，輸出標(biāo)準(zhǔn)化報(bào)告，實(shí)現(xiàn)真正的量化品控。

04 不挑安裝環(huán)境

內(nèi)置減震系統(tǒng)，環(huán)境適應(yīng)性

內(nèi)置減震系統(tǒng)，對(duì)安裝環(huán)境要求低，無(wú)需防震臺(tái)，可直接放置于生產(chǎn)車間、樓層 QC 實(shí)驗(yàn)室等，甚至可以車載，野外場(chǎng)景使用。節(jié)省實(shí)驗(yàn)室改造費(fèi)用，真正做到“買得起，更能用得好"。

飛納電鏡曾經(jīng)參與冰島火山口、西班牙無(wú)人島等科學(xué)研究項(xiàng)目，是適用于惡劣環(huán)境的便攜掃描電鏡?？蒲腥藛T采集樣本回到帳篷中，利用飛納電鏡來確定樣本的化學(xué)構(gòu)成，極大地提高了樣本采集和分析的效率。

05.原廠集成能譜 EDS

集成能譜探測(cè)器，所有操作：從電子光學(xué)設(shè)置、圖像采集到能譜分析和面分布，都在同一個(gè)統(tǒng)一、直觀的界面中完成。

        （1） ChemiSEM 彩色成像技術(shù)

形貌圖像和元素?cái)?shù)據(jù)實(shí)時(shí)同步，無(wú)縫調(diào)用。用戶可以在觀察形貌的同時(shí)，即時(shí)進(jìn)行點(diǎn)、線、面分析，無(wú)需任何數(shù)據(jù)導(dǎo)入導(dǎo)出的步驟。

（2）Phase Mapping 相分析軟件

專有的在線相分析軟件模塊 (Phase Mapping)，利用強(qiáng)大的算法，根據(jù)每個(gè)像素點(diǎn)的元素定量結(jié)果，自動(dòng)識(shí)別、分類并標(biāo)定出不同的“相"或“化合物"。

06.低電壓成像功能

PhenomXL G3 配備了全新升級(jí)真空設(shè)計(jì)和背散射探測(cè)器 (BSD)，優(yōu)化了低電壓下的靈敏度，提升了總體的信噪比 (S/N)，對(duì)于不導(dǎo)電、導(dǎo)電性差、以及電子束敏感樣品，可以使用更低的束流進(jìn)行拍攝，提升分辨率的同時(shí)，降低荷電效應(yīng)帶來的影響。

由于整體信噪比的提升，我們可以使用更短的采集時(shí)間采集同樣質(zhì)量的照片，在自動(dòng)化工作流程中，高通量照片拍攝的總效率平均提升 30%。

電子陶瓷

• 放大倍數(shù)：1,000X

• 5kV，未噴金，背散射電子像

• 觀測(cè)到陶瓷內(nèi)晶粒大小和空隙

CMOS 探測(cè)器

• 放大倍數(shù)：5,000X

• 2kV，二次電子像

• 可以清晰看到像素單元及表面污染物