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復(fù)納科學(xué)儀器(上海)有限公司
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相約黃山|復(fù)納科技邀您共赴2025年安徽省電子顯微學(xué)學(xué)術(shù)交流會(huì)

 更新時(shí)間:2025-03-26 點(diǎn)擊量:673

2025 年 3 月 27 日 - 30 日,2025 年安徽省電子顯微學(xué)學(xué)術(shù)交流會(huì)將在黃山市拉開帷幕!這是一次匯聚行業(yè)精英、共探前沿技術(shù)的契機(jī),復(fù)納科技也將攜前沿技術(shù)與產(chǎn)品參與其中,與大家攜手推動(dòng)電子顯微學(xué)的發(fā)展。

會(huì)議時(shí)間:2025年3月27日-30日

會(huì)議地點(diǎn):安徽農(nóng)業(yè)大學(xué)皖南綜合試驗(yàn)站

 

復(fù)納科學(xué)儀器(上海)有限公司(簡稱“復(fù)納科技")深耕儀器行業(yè) 15 年,致力于引進(jìn)先進(jìn)的分析測試科學(xué)儀器裝備,為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品、服務(wù)和核心技術(shù)解決方案,賦能科研創(chuàng)新、工業(yè)升級。目前主要提供六大產(chǎn)品:飛納臺式掃描電鏡、Technoorg Linda 制樣設(shè)備離子研磨儀、DENSsolutions 原位透射樣品桿、NEOSCAN 高分辨臺式顯微 CT、Forge Nano 粉末原子層沉積系統(tǒng)和 VSParticle 納米氣溶膠沉積系統(tǒng)以及相關(guān)產(chǎn)品的付費(fèi)測試服務(wù)。

 

Part.1 飛納臺式掃描電鏡

 

荷蘭飛納作為桌面掃描電子顯微鏡,操作簡單,成像速度快且質(zhì)量高,其優(yōu)異的低真空模式可以直接觀察不導(dǎo)電樣品,收到了眾多研究者的青睞。

 

Phenom AFM-SEM 原子力掃描電鏡一體機(jī)能夠提供多種測量模式,包括機(jī)械性能、相關(guān)性分析、磁性能、電機(jī)械性能和電性能等,覆蓋了從亞納米級地形測量到局部彈性、硬度、磁疇成像、壓電疇成像、導(dǎo)電性映射、局部表面電勢映射以及局部電性能等多個(gè)領(lǐng)域。

 

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Pharos STEM 作為臺式場發(fā)射 SEM-STEM 電子顯微鏡,為材料領(lǐng)域的研究提供了高效、全面的表征方式。

 

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Phenom SEM 型號推薦

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Phenom AFM-SEM 原子力掃描電鏡一體機(jī)

 

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Phenom Pharos 臺式場發(fā)射掃描電鏡

 

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Phenom XL 大樣品室版

 

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Phenom ProX 電鏡能譜一體機(jī)

 

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ParticleX Battery 全自動(dòng)鋰電清潔系統(tǒng)

 

Part.2 SEM/TEM 制樣設(shè)備

 

復(fù)納科技還擁有Technorg Linda 系列離子研磨儀,采用離子束技術(shù),可對樣品進(jìn)行快速研磨及表面精細(xì)加工和最終拋光。是SEM/TEM 樣品表面處理的有力工具。

 

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臺式離子研磨儀 SMART

 

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臺式離子精修儀 Gentle Mill

 

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臺式離子減薄儀 Unimill

 

Part.3 DENSsolutions 原位樣品桿

 

DENS 產(chǎn)品可以為原位 TEM 樣品施加外界刺激,捕捉 TEM 樣品在真實(shí)環(huán)境下的動(dòng)態(tài)現(xiàn)象。目前提供的五種原位實(shí)驗(yàn)方案:Wildfire TEM 原位加熱方案、Lightning TEM 原位熱電方案、Climate Infinity TEM 原位氣相加熱加電方案、Stream Infinity TEM 原位液相加熱加電方案和 Arctic TEM 原位冷凍熱電方案,為各學(xué)科領(lǐng)域在相關(guān)條件下研究各種材料和工藝開辟了可能性。

 

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Wildfire 原位加熱樣品桿

 

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Lightning 原位熱電方案

 

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Climate Infinity 原位氣相加熱加電方樣品桿

 

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Stream Infinity 原位液相加熱加電樣品桿

 

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Arctic TEM 原位冷凍熱電樣品桿

 

Part.4 NEOSCAN 臺式顯微 CT 

 

NEOSCAN 臺式顯微 CT 掃描系統(tǒng)對場地要求少、免維護(hù)、具備高空間分辨率。能夠真實(shí)再現(xiàn)材料內(nèi)部結(jié)構(gòu),在材料研究、失效分析、工藝優(yōu)化中已經(jīng)成為不可替代的測試手段。

 

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Part.5 Forge Nano 原子層沉積

 

ALD 技術(shù)可實(shí)現(xiàn)高精度及均勻包覆,能夠有效提升材料性能與使用壽命。Forge Nano 針對粉末類材料比表面積大的特點(diǎn),采用流化床技術(shù)實(shí)現(xiàn)粉末材料的流化,從而保證前驅(qū)體與粉末實(shí)現(xiàn)充分的接觸,可實(shí)現(xiàn)kg級粉末批量包覆,是工業(yè)生產(chǎn)前理想的研發(fā)工具。

 

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PROMETHEUS 流化床原子層沉積系統(tǒng)

 

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Pandora 多功能原子層沉積系統(tǒng)

 

Part.6 VSParticle 納米沉積系統(tǒng)

 

VSP-P1 納米印刷沉積系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)具有性能的無機(jī)納米結(jié)構(gòu)材料的打印直寫。印刷涂層的顆粒由 VSP-G1 納米粒子發(fā)生器產(chǎn)生,經(jīng)火花燒蝕產(chǎn)生的氣溶膠顆粒其典型粒徑在 20nm 以下,且不含表面活性劑或任何其他有機(jī)添加物質(zhì)。納米粒子生產(chǎn)和印刷沉積的整個(gè)過程是自動(dòng)化的,不需要進(jìn)行后續(xù)有機(jī)成分的熱處理去除。

 

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納米印刷沉積系統(tǒng) VSP-P1

 

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納米粒子發(fā)生器 VSP-G1



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